新品 | APPLICS OD-UND-010 分体式溶解臭氧浓度计:监测半导体超纯水臭氧
新品 | APPLICS OD-UND-010 分体式溶解臭氧浓度计:监测半导体超纯水臭氧
近期,理科研推出了APPLICS 分离式溶解臭氧浓度计 OD-UND-010。
品牌:日本 APPLICS(アプリクス,阿普里克斯)
全称:无指示传输型(非指示透射式)分离式溶解臭氧浓度计
基础概述
分体式在线溶解臭氧监测仪表,检测器与信号转换单元分离,本体不带本地显示,直接输出 4~20mA 模拟信号,面向水处理、半导体工艺、纯水 / 超纯水等工业自动化闭环控制场景;采用253.7nm 紫外吸收法,无需试剂,抗余氯干扰。
核心规格
型号:OD-UND-010
测量范围:0~10 mg/L(同系列还有 030/060/120/200,对应 0~30/60/120/200 mg/L)
测量原理:紫外吸收法(253.7nm)
精度:线性误差 ±2% F.S.,重复性 ±1% F.S.
响应时间:≤10s(90% 响应)
温度补偿:5~40℃自动补偿
耐压:0~1.0 MPa,检测池自带管道接头,可直连工艺管路
流量:50~500 mL/min,内置抗气泡结构
电源:DC24V
输出:
标配 DC4~20mA(隔离,负载≤500Ω)
光源老化报警:集电极开路输出
检测器防护:防滴结构;显示单元为可选配件
产品特点
分体结构:检测头可安装在狭小管路现场,转换器远程放置,布线灵活
免试剂:紫外光学检测,无化学耗材,运维简单
抗干扰:不受水体余氯、pH、浊度影响
工控友好:无本地显示,专注模拟量输出,适配 PLC/DCS 系统集成
典型应用场景
超纯水 / 半导体清洗工艺臭氧监控
净水、污水臭氧消毒工艺
食品制药纯水臭氧工艺
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